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KMP-2AT 大觸摸屏雙盤手動(dòng)磨拋機(jī)采用了大觸摸屏，可使磨拋盤的轉(zhuǎn)速在50-1000r/min之間連續(xù)可調(diào)，通過更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序，展現(xiàn)了更廣泛的應(yīng)用性。

KZP-250G 振動(dòng)拋光機(jī)采用高頻微量振動(dòng)方式，對(duì)樣件表層進(jìn)行輕量精細(xì)拋光，盡量減少在拋光過程中的機(jī)械應(yīng)力；適用于在各種材料上制備高質(zhì)量的拋光表面，包括電子背散射衍射分析 (EBSD) 應(yīng)用、原子力顯微鏡（AFM）分析、電鏡（SEM）分析等前序樣品制備非常有效。同時(shí)，振動(dòng)拋光因其優(yōu)異的機(jī)械-化學(xué)拋光效果，適合大部分材料的精拋和終拋，尤其適用于軟質(zhì)和韌性材料，如純鈦及鈦合金、純鋁及鋁合金、純銅。

KMP-1X 觸摸屏無極調(diào)速金相磨拋機(jī)為單盤單控手動(dòng)臺(tái)式機(jī)，是集成金相預(yù)磨、研磨和拋光等多功能于一體的磨拋設(shè)備。該設(shè)備轉(zhuǎn)速恒定、扭矩大、轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、噪音低，可實(shí)現(xiàn)1-1000r/min恒扭矩恒轉(zhuǎn)速使用。采用觸摸屏與按鍵操作，操作方便簡(jiǎn)單，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行粗磨、精磨、粗拋至精拋的全過程設(shè)備。

KMP-2MV 雙盤雙控金相磨拋機(jī)，雙盤開關(guān)單獨(dú)控制，雙盤轉(zhuǎn)速任意可調(diào)，可提高試樣的磨拋質(zhì)量和試樣的制備效率，該機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)，噪音低，是一種理想的金相制樣設(shè)備。

KMP-2AX 金相磨拋機(jī)為雙盤單控手動(dòng)臺(tái)式機(jī)，左盤用于研磨，右盤用于拋光，可以兩人同時(shí)操作使用，本機(jī)是集金相預(yù)磨、研磨和拋光等多功能于一體，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、噪音低、操作簡(jiǎn)單，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行粗磨、精磨、粗拋至精拋的設(shè)備。

KMP-2XL 柜式金相試樣磨拋機(jī)，具有單獨(dú)控制的雙盤系統(tǒng)用于研磨和拋光，本機(jī)堅(jiān)固穩(wěn)定、經(jīng)久耐用；磨拋盤無級(jí)調(diào)速，可切換旋轉(zhuǎn)方向；電機(jī)噪音低、磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)；采用柜式結(jié)構(gòu)，可存放各類耗材、試樣，使用方便；能完成各種試樣的粗磨、細(xì)磨及拋光等各道工序，是實(shí)驗(yàn)室的理想金相制樣設(shè)備。本產(chǎn)品可定制成成套磨拋設(shè)備，根據(jù)不同實(shí)驗(yàn)室規(guī)格設(shè)計(jì)，滿足實(shí)驗(yàn)室的制樣需求。